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Hiden > 應用方式分類

HPR-30

過程氣體分析質譜儀 (Measures the vacuum process gas composition, contamination and leak detection)
英國Hiden公司的HPR30過程氣體分析質譜儀。
英國Hiden公司的HPR30過程氣體分析質譜儀。

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EQP

EQP等離子體品質和能量分析質譜儀 (For the analysis of positive and negative ions, neutrals, and radicals from plasma processes)
Hiden EQP是一台結合品質和能量分析的儀器(Mass and Energy Analyser for Plasma Diagnostics),用於分析等離子過程中陰、陽離子、中性粒子以及自由基。
Hiden EQP是一台結合品質和能量分析的儀器(Mass and Energy Analyser for Plasma Diagnostics),用於分析等離子過程中陰、陽離子、中性粒子以及自由基。

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PSM

PSM等離子體品質和能量分析質譜儀 (A mass and energy analyser for plasma diagnostics)
英國Hiden公司的PSM等離子體品質和能量分析質譜儀(Hiden Analytical)。
可以測量一些關鍵的等離子體參數,提供詳細的與等離子體反應化學有關的資訊。
英國Hiden公司的PSM等離子體品質和能量分析質譜儀(Hiden Analytical)。
可以測量一些關鍵的等離子體參數,提供詳細的與等離子體反應化學有關的資訊。

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ESPion

高級朗繆爾探針 (Measures electrical properties of low pressure plasma)
ESPion高級朗繆爾探針(Advanced Langmuir Probes for Electrical Plasma Characterisation)可快速、可靠、精確地進行等離子體診斷,是最先進可靠的Langmuir探針。
ESPion高級朗繆爾探針(Advanced Langmuir Probes for Electrical Plasma Characterisation)可快速、可靠、精確地進行等離子體診斷,是最先進可靠的Langmuir探針。

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EQS

二次離子質譜探針
EQS 是差式泵式二次離子質譜(SIMS-Secondary Ion Mass Spectrometer ‘Bolt-On’ probe),可分析來自固體樣品的二次陰、陽離子和中性粒子。採用最新技術的SIMS 探針,便於連結到現有的UHV表面科學研究反應室。
EQS 是差式泵式二次離子質譜(SIMS-Secondary Ion Mass Spectrometer ‘Bolt-On’ probe),可分析來自固體樣品的二次陰、陽離子和中性粒子。採用最新技術的SIMS 探針,便於連結到現有的UHV表面科學研究反應室。

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XBS

分子束外延沉積速率監測/控制系統 (For molecular beam analysis and deposition rate control)
英國Hiden公司的XBS三級濾過四極質譜(MBE Deposition Rate Monitoring / Control System),適於精確的MBE分析,其他氣體分析和科學實驗使用。
英國Hiden公司的XBS三級濾過四極質譜(MBE Deposition Rate Monitoring / Control System),適於精確的MBE分析,其他氣體分析和科學實驗使用。

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SIMS/SNMS Workstation

二次離子質譜工作站 (For fast and easy characterisation of layer structures, surface contamination and impurities)
SIMS 工作站(SIMS Workstation-a complete SIMS Analysis Facility) ,綜合UHV / SIMS 設備,進行高級的表面分析。可靠的、普遍適用的SIMS分析工作站。
SIMS 工作站(SIMS Workstation-a complete SIMS Analysis Facility) ,綜合UHV / SIMS 設備,進行高級的表面分析。可靠的、普遍適用的SIMS分析工作站。

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IMP-EPD

等離子體刻蝕終點檢測儀 (A system for ion etch control and optimum process quality)
英國Hiden公司的IMP離子蝕刻探針(Ion Milling Probe),自帶差式泵,堅固的二次離子質譜儀,適於分析離子蝕刻過程中的二次離子和中性粒子。獨有的專業終點檢測(End Point Detection)儀器,用於離子蝕刻控制以及過程品質最優化監測。
英國Hiden公司的IMP離子蝕刻探針(Ion Milling Probe),自帶差式泵,堅固的二次離子質譜儀,適於分析離子蝕刻過程中的二次離子和中性粒子。獨有的專業終點檢測(End Point Detection)儀器,用於離子蝕刻控制以及過程品質最優化監測。

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MAXIM

二次離子/濺射中性粒子質譜儀 (A system for static and dynamic SIMS and SNMS applications)
MAXIM 二次離子/濺射中性粒子質譜儀可分析二次陰、陽離子動態和中性粒子,所具備的的30°接受角可形成樣品粒子平面,應用於SIMS和SNMS的光學採樣。
MAXIM 二次離子/濺射中性粒子質譜儀可分析二次陰、陽離子動態和中性粒子,所具備的的30°接受角可形成樣品粒子平面,應用於SIMS和SNMS的光學採樣。

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IG5C

銫離子槍 (Primary ion source for SIMS/SNMS analysis and elemental mapping of electronegative species)
Hiden IG5C 銫離子槍(Ion Gun),先進的離子槍,配合SIMS進行材料表面和深度的分析。具備低功耗、高亮度表面電離離子源,並耦合到一個緊湊的高性能組合中。
Hiden IG5C 銫離子槍(Ion Gun),先進的離子槍,配合SIMS進行材料表面和深度的分析。具備低功耗、高亮度表面電離離子源,並耦合到一個緊湊的高性能組合中。

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IG20

Ar/O2離子槍 (Primary ion source for SIMS/SNMS analysis and elemental mapping of electropositive species)
Hiden IG20 Ar/O2離子槍(Ion Gun),先進的離子槍,配合SIMS進行材料表面和深度的分析。
Hiden IG20 Ar/O2離子槍(Ion Gun),先進的離子槍,配合SIMS進行材料表面和深度的分析。

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HPR-60 MBMS

常壓分子束取樣質譜儀 (A molecular beam sampling mass spectrometer for analysis of neutrals, radicals and ions)
HPR60 MBMS常壓分子束取樣質譜儀(Molecular Beam Sampling Mass Spectrometer)是完備的氣體分析質譜儀系統,適用于常壓下的高速度、無碰撞的分子束分析,即常壓下的等離子體過程分析/表徵。
HPR60 MBMS常壓分子束取樣質譜儀(Molecular Beam Sampling Mass Spectrometer)是完備的氣體分析質譜儀系統,適用于常壓下的高速度、無碰撞的分子束分析,即常壓下的等離子體過程分析/表徵。

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