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EQS

二次離子質譜探針
EQS 是差式泵式二次離子質譜(SIMS-Secondary Ion Mass Spectrometer ‘Bolt-On’ probe),可分析來自固體樣品的二次陰、陽離子和中性粒子。採用最新技術的SIMS 探針,便於連結到現有的UHV表面科學研究反應室。
EQS 是差式泵式二次離子質譜(SIMS-Secondary Ion Mass Spectrometer ‘Bolt-On’ probe),可分析來自固體樣品的二次陰、陽離子和中性粒子。採用最新技術的SIMS 探針,便於連結到現有的UHV表面科學研究反應室。

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SIMS/SNMS Workstation

二次離子質譜工作站 (For fast and easy characterisation of layer structures, surface contamination and impurities)
SIMS 工作站(SIMS Workstation-a complete SIMS Analysis Facility) ,綜合UHV / SIMS 設備,進行高級的表面分析。可靠的、普遍適用的SIMS分析工作站。
SIMS 工作站(SIMS Workstation-a complete SIMS Analysis Facility) ,綜合UHV / SIMS 設備,進行高級的表面分析。可靠的、普遍適用的SIMS分析工作站。

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MAXIM

二次離子/濺射中性粒子質譜儀 (A system for static and dynamic SIMS and SNMS applications)
MAXIM 二次離子/濺射中性粒子質譜儀可分析二次陰、陽離子動態和中性粒子,所具備的的30°接受角可形成樣品粒子平面,應用於SIMS和SNMS的光學採樣。
MAXIM 二次離子/濺射中性粒子質譜儀可分析二次陰、陽離子動態和中性粒子,所具備的的30°接受角可形成樣品粒子平面,應用於SIMS和SNMS的光學採樣。

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IG5C

銫離子槍 (Primary ion source for SIMS/SNMS analysis and elemental mapping of electronegative species)
Hiden IG5C 銫離子槍(Ion Gun),先進的離子槍,配合SIMS進行材料表面和深度的分析。具備低功耗、高亮度表面電離離子源,並耦合到一個緊湊的高性能組合中。
Hiden IG5C 銫離子槍(Ion Gun),先進的離子槍,配合SIMS進行材料表面和深度的分析。具備低功耗、高亮度表面電離離子源,並耦合到一個緊湊的高性能組合中。

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IG20

Ar/O2離子槍 (Primary ion source for SIMS/SNMS analysis and elemental mapping of electropositive species)
Hiden IG20 Ar/O2離子槍(Ion Gun),先進的離子槍,配合SIMS進行材料表面和深度的分析。
Hiden IG20 Ar/O2離子槍(Ion Gun),先進的離子槍,配合SIMS進行材料表面和深度的分析。

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